国产光刻胶技术实现重大突破，国内市场迎来广阔替代空间

最近，九峰山实验室与华中科技大学合作的研究团队取得了重大突破，成功开发出了一种新型的光刻胶技术，该技术名为“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”。这项具有自主知识产权的光刻胶体系已经通过了产线上的初步工艺验证，并且各项技术指标也完成了检测和优化，实现了从技术开发到成果转化的全链条打通。

光刻胶是一种在光刻工艺中作为耗材的重要材料，根据应用领域的不同，可分为PCB、LCD/OLED面板和半导体光刻胶。尤其是半导体光刻胶，其市场需求一直处于高速增长状态。根据SEMI的数据显示，2022年全球半导体光刻胶市场规模达到了26.4亿美元，同比增长6.82%；而大陆半导体光刻胶市场规模更是高达5.93亿美元，同比增长达到20.47%，增速远超全球平均水平。马良分析师指出，国产高端半导体光刻胶市场的需求迫切。

在相关上市公司中，强力新材是国内少数布局光刻胶专用电子化学品的企业之一，其技术和产品已经涵盖了PCB干膜光刻胶、LCD光刻胶、半导体光刻胶等主要品种的关键原材料。另外，扬帆新材的部分光引发剂产品也可应用于光刻胶领域，为国产光刻胶技术的发展提供了有力支持。